使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺(tái)式 
高性能型號(hào)，調(diào)取數(shù)據(jù)簡單，以電子材料為中心，可對應(yīng) 
多種用途。 
●可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。 
●搭載高精度適配器，高性能RF電源。 
●可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。 
特征 
●硅晶圓的灰化及蝕刻 
●基板表面污垢處理 
●IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理 
●半導(dǎo)體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗 
●自然氧化膜·有機(jī)物去除 
●界面活性處理 
●表面污染物去除